
Успехи в разработке первого поколения 2-нм техпроцесса GAA свидетельствуют о том, что Samsung укрепляет свои позиции в литейной промышленности и может стать серьезным конкурентом для TSMC в будущем.
Новый отчет сообщает, что Samsung завершила базовую разработку второго поколения своего 2-нм техпроцесса GAA, который планируется использовать для различных целей, включая массовое производство будущих систем на чипе (SoC) Exynos.
Производство первого поколения 2-нм GAA постепенно налаживается. Если разработка второго поколения пойдет по плану, Samsung может внедрить его в процессоры Exynos 2700.
Корейские СМИ, ссылаясь на информацию от @Jukanlosreve, сообщают о стремлении Samsung восстановить свои позиции в литейном бизнесе с помощью второго поколения 2-нм техпроцесса GAA, также известного как SF2P. В настоящее время идет массовое производство прототипа Exynos 2600, и подразделения LSI и полупроводников Samsung планируют достичь 50-процентного выхода годных чипов в течение нескольких месяцев. Эти результаты указывают на уверенность компании в своих разработках, и другие корейские технологические компании и дизайнерские фирмы начинают проявлять интерес к технологии SF2P.
Перспективы на будущее
Массовое производство запланировали на следующий год. Если испытания пройдут успешно, компания может использовать 2-нм техпроцесс GAA второго поколения для будущих чипсетов Exynos. По сравнению с первой версией, SF2P предлагает несколько улучшений: по заявлениям Samsung, производительность увеличится на 12%, энергопотребление снизится на 25%, а площадь чипа сократится на 8%. В отчете не указаны конкретные клиенты, заинтересованные в этом производственном процессе, но Qualcomm может быть одним из них.
Предполагается, что Snapdragon 8 Elite Gen 2 от Qualcomm, разработанный специально для серии Galaxy S25, будет производиться на 2-нм пластинах GAA от Samsung. Это может указывать на то, что Qualcomm планирует возобновить стратегию использования двух поставщиков, сотрудничая как с Samsung, так и с TSMC. На данный момент основное внимание уделяется 2-нм техпроцессу GAA первого поколения, так как конкуренция в этой области будет высокой и выявит лучшие разработки литейных гигантов.
